Տոների արտադրության մեջ օգտագործվող հումքը սովորաբար ներառում է փաթիլ գրաֆիտ, նավթային կոքս և միկրոբյուրեղային քարի թանաք: Որքան բարձր է գրաֆիտի մաքրությունը, այնքան բարձր է օգտագործման արժեքը: Գրաֆիտի մաքրման մեթոդները կարելի է բաժանել ֆիզիկական և քիմիական մեթոդների: Ֆիզիկական մաքրման մեթոդները ներառում են ֆլոտացիա և բարձր ջերմաստիճանի մաքրում, իսկ քիմիական մաքրման մեթոդները ներառում են թթու-բազային մեթոդը, հիդրոֆտորաթթվի մեթոդը և քլորիդի թրծման մեթոդը:
Դրանցից բարձր ջերմաստիճանի մաքրման մեթոդը կարող է օգտագործել գրաֆիտի բարձր հալման կետը (3773K) և եռման կետը 4N5 և ավելի բարձր մաքրության հասնելու համար, որը ներառում է ցածր եռման կետով կեղտերի գոլորշիացում և արտանետում, որպեսզի հասնի նպատակին: մաքրում [6]. Բարձր մաքրության տոնիկի հիմնական տեխնոլոգիան հետքի կեղտերի հեռացումն է: Քիմիական մաքրման և բարձր ջերմաստիճանի մաքրման բնութագրերի հետ զուգակցվել է եզակի հատվածային կոմպոզիտային բարձր ջերմաստիճան ջերմաքիմիական մաքրման գործընթաց՝ բարձր մաքրության տոներային նյութերի մաքրմանը հասնելու համար, և արտադրանքի մաքրությունը կարող է լինել ավելի քան 6N:
Արտադրանքի կատարումը և առանձնահատկությունները.
1, արտադրանքի մաքրությունը≥99,9999% (6N);
2, բարձր մաքրության ածխածնի փոշի կայունություն, գրաֆիտացման բարձր աստիճան, ավելի քիչ կեղտեր;
3, հատիկավորությունը և տեսակը կարող են հարմարեցվել ըստ օգտագործողների:
Ապրանքի հիմնական օգտագործումը.
■Բարձր մաքրության SiC փոշու և այլ պինդ ֆազային սինթետիկ կարբիդային նյութերի սինթեզ
■Աճեցրեք ադամանդներ
■Նոր ջերմահաղորդական նյութեր էլեկտրոնային արտադրանքների համար
■Բարձրորակ լիթիումային մարտկոցի կաթոդ նյութ
■Թանկարժեք մետաղների միացությունները նույնպես հումք են
-
Կիսահաղորդչային սիլիցիումի կարբիդային վաֆլի նավակը կարող է...
-
Տանտալի կարբիդի (TaC) ծածկույթներ՝ բարձր մաքրությամբ...
-
Գրաֆիտի ընկալիչներ սիլիցիումի կարբիդային շերտով...
-
Սիլիկոնային կարբիդի էպիտաքսիալ վաֆլի սկավառակներ VEECO-ի համար...
-
LMJ microjet լազերային տեխնոլոգիայի սարքավորում
-
LPE Halfmoon Reaction Chamber