Semicera Semiconductor Technology Co., Ltd.-ն, որը հիմնված է Չինաստանի Չժեցզյան նահանգի Նինգբո քաղաքում, ստեղծվել է 2018 թվականի հունվարին: Մեր առաքելությունն է ապագան կերտել նյութերի միջոցով, և մեր տեսլականն է դառնալ առաջատար նոր նյութերի ընկերություն՝ առանցքային տեխնոլոգիաներով: կիսահաղորդչային դաշտ.Մենք մասնագիտացած ենք առաջադեմ տեխնոլոգիաների հետազոտման և զարգացման մեջ, ինչպիսիք են SiC ծածկույթները, Tac ծածկույթները, պիրոլիտիկ ածխածնային ծածկույթները, CVD SiC (Solid SiC) և վերաբյուրեղացված սիլիցիումի կարբիդը, որոնք կարևոր նշանակություն ունեն կիսահաղորդչային արդյունաբերության համար:Մենք նաև կենտրոնանում ենք բարձր մաքրության նյութական արտադրանքի լայնածավալ արտադրության վրա:
Պատիվ և վկայական
Հաստատություններ և լաբորատորիաներ
CVD բարձր ջերմաստիճանի վառարան
Ծածկույթի ենթաշերտեր՝ լուսադիոդային չիպային էպիտաքսիայի, սիլիկոնային վաֆլի էպիտաքսիայի, երրորդ սերնդի կիսահաղորդչային էպիտաքսիայի հիմքերի և բաղադրիչների, TaC ծածկույթների և այլնի համար:
Վակուումային մաքրման վառարան
Ածխածնի վրա հիմնված տարրերի մաքրում, ինչպիսիք են գրաֆիտը, ածխածնի ֆետրը, գրաֆիտի փոշին և ածխածնի կոմպոզիտը:
Հորիզոնական գրաֆիտացման վառարան
Հիմնականում օգտագործվում է ածխածնային նյութերի բարձր ջերմաստիճանի մշակման համար, ինչպիսիք են ածխածնային նյութերի թրծումը և գրաֆիտացումը, PI թաղանթի գրաֆիտացումը, ջերմահաղորդիչ նյութերի սինթիզացումը, ածխածնային մանրաթելերի պարանների սինթրումը և գրաֆիտացումը, ածխածնային մանրաթելերի գրաֆիտացումը, գրաֆիտի փոշի մաքրումը, և այլ նյութեր, որոնք հարմար են ածխածնային միջավայրի գրաֆիտացման համար: