Tantalum Carbid Coating Half-Moon

Կարճ նկարագրություն:

8 դյույմանոց սիլիցիումի կարբիդային (SiC) վաֆլիների հայտնվելով, կիսահաղորդչային տարբեր պրոցեսների պահանջները գնալով ավելի խիստ են դառնում, հատկապես էպիտաքսիայի պրոցեսների համար, որտեղ ջերմաստիճանը կարող է գերազանցել 2000 աստիճան Ցելսիուսը:Ավանդական ընկալիչ նյութերը, ինչպիսիք են սիլիցիումի կարբիդով պատված գրաֆիտը, հակված են սուբլիմացման այս բարձր ջերմաստիճաններում՝ խաթարելով էպիտաքսիայի գործընթացը:Այնուամենայնիվ, CVD տանտալի կարբիդը (TaC) արդյունավետորեն լուծում է այս խնդիրը՝ դիմակայելով մինչև 2300 աստիճան Ցելսիուսի ջերմաստիճաններին և առաջարկելով ավելի երկար ծառայության ժամկետ:Կապ Semicera's Tantalum Carbid Coating Half-Moonավելին ուսումնասիրելու մեր առաջադեմ լուծումների մասին:


Ապրանքի մանրամասն

Ապրանքի պիտակներ

Semicera-ն տրամադրում է մասնագիտացված տանտալ կարբիդի (TaC) ծածկույթներ տարբեր բաղադրիչների և կրիչների համար:Semicera առաջատար ծածկույթի գործընթացը հնարավորություն է տալիս տանտալի կարբիդի (TaC) ծածկույթներին հասնել բարձր մաքրության, բարձր ջերմաստիճանի կայունության և բարձր քիմիական հանդուրժողականության՝ բարելավելով SIC/GAN բյուրեղների և EPI շերտերի արտադրանքի որակը (Գրաֆիտով պատված TaC ընկալիչ), և երկարացնելով ռեակտորի հիմնական բաղադրիչների կյանքը:Տանտալի կարբիդի TaC ծածկույթի օգտագործումը եզրերի խնդիրը լուծելու և բյուրեղների աճի որակը բարելավելու համար է, իսկ Semicera-ն բեկումնային լուծում է տվել տանտալի կարբիդի ծածկույթի տեխնոլոգիան (CVD)՝ հասնելով միջազգային առաջադեմ մակարդակի:

 

8 դյույմանոց սիլիցիումի կարբիդային (SiC) վաֆլիների հայտնվելով, կիսահաղորդչային տարբեր պրոցեսների պահանջները գնալով ավելի խիստ են դառնում, հատկապես էպիտաքսիայի պրոցեսների համար, որտեղ ջերմաստիճանը կարող է գերազանցել 2000 աստիճան Ցելսիուսը:Ավանդական ընկալիչ նյութերը, ինչպիսիք են սիլիցիումի կարբիդով պատված գրաֆիտը, հակված են սուբլիմացման այս բարձր ջերմաստիճաններում՝ խաթարելով էպիտաքսիայի գործընթացը:Այնուամենայնիվ, CVD տանտալի կարբիդը (TaC) արդյունավետորեն լուծում է այս խնդիրը՝ դիմակայելով մինչև 2300 աստիճան Ցելսիուսի ջերմաստիճաններին և առաջարկելով ավելի երկար ծառայության ժամկետ:Կապ Semicera's Tantalum Carbid Coating Half-Moonավելին ուսումնասիրելու մեր առաջադեմ լուծումների մասին:

Տարիների զարգացումից հետո Semicera-ն նվաճեց տեխնոլոգիանCVD TaCգիտահետազոտական ​​բաժնի համատեղ ջանքերով։SiC վաֆլիների աճի գործընթացում թերությունները հեշտ են առաջանում, բայց օգտագործելուց հետոTaC, տարբերությունը զգալի է։Ստորև ներկայացված է վաֆլիների համեմատությունը TaC-ով և առանց TaC-ի, ինչպես նաև Simicera' մասերի մեկ բյուրեղային աճի համար:

微信图片_20240227150045

TaC-ով և առանց դրա

微信图片_20240227150053

TaC-ն օգտագործելուց հետո (աջ)

Ավելին, Semicera-իTaC-պատված արտադրանքհամեմատ ավելի երկար սպասարկման ժամկետ և բարձր ջերմաստիճանի ավելի մեծ դիմադրությունSiC ծածկույթներ.Լաբորատոր չափումները ցույց են տվել, որ մերTaC ծածկույթներկարող է հետևողականորեն գործել մինչև 2300 աստիճան Ցելսիուս ջերմաստիճանում երկար ժամանակով:Ստորև բերված են մեր նմուշների մի քանի օրինակ.

 
3

TaC ծածկված ընկալիչ

4

Գրաֆիտ TaC պատված ռեակտորով

0 (1)
Semicera Աշխատանքային վայր
Semicera աշխատավայր 2
Սարքավորումների մեքենա
Semicera Ware House
CNN-ի մշակում, քիմիական մաքրում, CVD ծածկույթ
Մեր ծառայությունը

  • Նախորդը:
  • Հաջորդը: