RTP CVD SiC օղակ

Կարճ նկարագրություն.

RTP CVD SiC օղակները հիմնականում կազմված են սիլիցիումի կարբիդից (SiC), որի քիմիական բաղադրությունը և բյուրեղային կառուցվածքը տալիս են գերազանց կատարում: Սիլիցիումի կարբիդը կերամիկական նյութ է բարձր հալման կետով, բարձր կարծրությամբ և գերազանց կոռոզիոն դիմադրությամբ: Այն ցուցադրում է լավ ջերմային հաղորդունակություն և քիմիական կայունություն բարձր ջերմաստիճաններում և ունի գերազանց մեխանիկական ուժ և մաշվածության դիմադրություն:

 


Ապրանքի մանրամասն

Ապրանքի պիտակներ

Ինչու է սիլիկոնային կարբիդով փորագրող օղակ:

RTPCVD SiC օղակներլայնորեն կիրառվում են արդյունաբերական և գիտական ​​ոլորտներում՝ բարձր ջերմաստիճանի և քայքայիչ միջավայրերում: Այն կարևոր դեր է խաղում կիսահաղորդիչների արտադրության, օպտոէլեկտրոնիկայի, ճշգրիտ մեքենաների և քիմիական արդյունաբերության մեջ: Հատուկ հավելվածները ներառում են.

1. Կիսահաղորդիչների արտադրություն.RTP CVD SiC օղակներկարող է օգտագործվել կիսահաղորդչային սարքավորումների ջեռուցման և հովացման համար՝ ապահովելով կայուն ջերմաստիճանի հսկողություն և ապահովելով գործընթացի ճշգրտությունն ու հետևողականությունը։

2. Օպտոէլեկտրոնիկա. իր գերազանց ջերմային հաղորդունակության և բարձր ջերմաստիճանի դիմադրության շնորհիվ, RTPCVD SiC օղակներկարող է օգտագործվել որպես լազերների, օպտիկամանրաթելային կապի սարքավորումների և օպտիկական բաղադրիչների օժանդակ և ջերմության ցրման նյութեր:

3. Ճշգրիտ մեքենաներ. RTP CVD SiC օղակները կարող են օգտագործվել բարձր ջերմաստիճանի և քայքայիչ միջավայրերում ճշգրիտ գործիքների և սարքավորումների համար, ինչպիսիք են բարձր ջերմաստիճանի վառարանները, վակուումային սարքերը և քիմիական ռեակտորները:

4. Քիմիական արդյունաբերություն. Իր կոռոզիոն դիմադրության և քիմիական կայունության շնորհիվ RTP CVD SiC օղակները կարող են օգտագործվել բեռնարկղերում, խողովակներում և ռեակտորներում քիմիական ռեակցիաներում և կատալիտիկ գործընթացներում:

 

Էպի համակարգ

Էպի համակարգ

RTP համակարգ

RTP համակարգ

CVD համակարգ

CVD համակարգ

Ապրանքի կատարումը.

1. Հանդիպեք 28 նմ-ից ցածր գործընթացին

2. Սուպեր կոռոզիոն դիմադրություն

3. Սուպեր մաքուր կատարում

4. Սուպեր կարծրություն

5. Բարձր խտություն

6. Բարձր ջերմաստիճանի դիմադրություն

7. Մաշվածության դիմադրություն

քվարցի արտադրության սարքավորումներ 4

Ապրանքի դիմում.

Սիլիցիումի կարբիդային նյութերն ունեն բարձր կարծրության, մաշվածության դիմադրության, կոռոզիոն դիմադրության և բարձր ջերմաստիճանի կայունության բնութագրեր: Գերազանց համապարփակ կատարողականությամբ արտադրանքները լայնորեն օգտագործվում են չոր փորագրման և TF/Diffusion գործընթացներում:

Ապրանքի կատարումը.

1. Հանդիպեք 28 նմ-ից ցածր գործընթացին

2. Սուպեր կոռոզիոն դիմադրություն

3. Սուպեր մաքուր կատարում

4. Սուպեր կարծրություն

5. Բարձր խտություն

6. Բարձր ջերմաստիճանի դիմադրություն

7. Մաշվածության դիմադրություն

微信截图_20241018182920
微信截图_20241018182909

Կոմպոզիտային գործընթացի զարգացում.

• Գրաֆիտ +SiC ծածկույթ

• Solide CVD SiC

• Սինտերված SiC+CVD

• SicSintered SiC

Բազմաթիվ արտադրանքի տեսակների մշակում.

• Մատանի

• Սեղան

• Սենսեպտոր

• Ցնցուղի գլուխ

Semicera Աշխատանքային վայր
Semicera աշխատավայր 2
Semicera Ware House
Սարքավորումների մեքենա
CNN-ի մշակում, քիմիական մաքրում, CVD ծածկույթ
Մեր ծառայությունը

  • Նախորդը:
  • Հաջորդը: