Semicera's LiNbO3 Bonding Wafer-ը նախատեսված է կիսահաղորդիչների առաջադեմ արտադրության բարձր պահանջները բավարարելու համար: Իր բացառիկ հատկություններով, ներառյալ բարձր մաշվածության դիմադրությունը, բարձր ջերմային կայունությունը և ակնառու մաքրությունը, այս վաֆլը իդեալական է օգտագործման համար այն ծրագրերում, որոնք պահանջում են ճշգրտություն և երկարատև աշխատանք:
Կիսահաղորդչային արդյունաբերության մեջ LiNbO3 կապող վաֆլիները սովորաբար օգտագործվում են օպտոէլեկտրոնային սարքերի, սենսորների և առաջադեմ IC-ների բարակ շերտերը միացնելու համար: Դրանք հատկապես գնահատվում են ֆոտոնիկայում և MEMS-ում (Միկրոէլեկտրամեխանիկական համակարգեր)՝ շնորհիվ իրենց գերազանց դիէլեկտրական հատկությունների և ծանր աշխատանքային պայմաններին դիմակայելու ունակության: Semicera-ի LiNbO3 Bonding Wafer-ը նախագծված է շերտերի ճշգրիտ կապակցման համար՝ բարձրացնելով կիսահաղորդչային սարքերի ընդհանուր աշխատանքը և հուսալիությունը:
LiNbO3-ի ջերմային և էլեկտրական հատկությունները | |
Հալման կետ | 1250 ℃ |
Կյուրիի ջերմաստիճանը | 1140 ℃ |
Ջերմային հաղորդունակություն | 38 W/m/K @ 25 ℃ |
Ջերմային ընդարձակման գործակիցը (@ 25°C) | //a,2.0×10-6/Կ //c,2.2×10-6/Կ |
Դիմադրողականություն | 2×10-6Ω·սմ @ 200 ℃ |
Դիէլեկտրական հաստատուն | εS11/ε0=43,εT11/ε0=78 εS33/ε0=28,εT33/ε0= 2 |
Պիեզոէլեկտրական հաստատուն | D22=2,04×10-11C/N D33=19,22×10-11C/N |
Էլեկտրաօպտիկական գործակից | γT33=32 pm/V, γS33=31 pm/V, γT31=10 pm/V, γS31= 8,6 pm/V, γT22=6,8 pm/V, γS22= 3.4 pm/V, |
Կիսալիքային լարում, հաստատուն | 3.03 ԿՎ 4.02 ԿՎ |
Ստեղծված բարձրորակ նյութերի օգտագործմամբ՝ LiNbO3 կապող վաֆլան ապահովում է կայուն հուսալիություն նույնիսկ ծայրահեղ պայմաններում: Նրա բարձր ջերմային կայունությունը այն դարձնում է հատկապես հարմար այնպիսի միջավայրերի համար, որոնք ներառում են բարձր ջերմաստիճաններ, ինչպիսիք են կիսահաղորդչային էպիտաքսիայի գործընթացներում հայտնաբերված միջավայրերը: Բացի այդ, վաֆլի բարձր մաքրությունը ապահովում է նվազագույն աղտոտվածություն՝ այն դարձնելով վստահելի ընտրություն կիսահաղորդչային կրիտիկական կիրառությունների համար:
Semicera-ում մենք պարտավորվում ենք ապահովել ոլորտի առաջատար լուծումներ: Մեր LiNbO3 Bonding Wafer-ն ապահովում է անզուգական ամրություն և բարձր արդյունավետության հնարավորություններ այն կիրառությունների համար, որոնք պահանջում են բարձր մաքրություն, մաշվածության դիմադրություն և ջերմային կայունություն: Անկախ նրանից, թե առաջադեմ կիսահաղորդիչների արտադրության համար, թե այլ մասնագիտացված տեխնոլոգիաների համար, այս վաֆլը ծառայում է որպես նորագույն սարքերի արտադրության հիմնական բաղադրիչ: